標題: SiHx (x=1-4)矽薄膜沉積的天然氣表面反應
Gas-Surface Reactions of SiHx (X=1-4) in Si-Thin Film Deposition
作者: 布力汗
Putikam Raghunath
國立交通大學應用化學系(所)
公開日期: 2014
官方說明文件#: MOST103-2113-M009-011-MY2
URI: http://hdl.handle.net/11536/98733
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=8321942&docId=441701
顯示於類別:研究計畫