標題: 限制驅導排程方法在晶圓廠黃光區之應用
An Application of TOC for Photolithography Area in Wafer Fabrication Factory
作者: 李榮貴
LI RONG-KWEI
國立交通大學工業工程與管理學系
關鍵字: 晶圓製造;光刻術;限制理論;Wafer fabrication;Photolithography;Theory of constraint
公開日期: 2001
官方說明文件#: NSC90-2218-E009-020
URI: http://hdl.handle.net/11536/95153
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=674289&docId=128525
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