標題: 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫IV:利用CVD法成長BST薄膜與特性分析(I)
Growth and Characterizations of CVD BST Thin Films (I)
作者: 曾俊元
TSEUNG-YUENTSENG
交通大學電子工程系
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2212-E009-040
URI: http://hdl.handle.net/11536/91308
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=718398&docId=134744
顯示於類別:研究計畫


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