標題: 奈米MOS元件之矽化物、超淺接面及接觸孔之研發(III)
Development of Silicide, Ultra-Shallow Junction and Contact Hole in Nano MOS Devices(III)
作者: 雷添福
LEI TAN-FU
交通大學電子工程研究所
公開日期: 2004
官方說明文件#: NSC93-2215-E009-003
URI: http://hdl.handle.net/11536/90911
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1026607&docId=195154
顯示於類別:研究計畫


文件中的檔案:

  1. 932215E009003.pdf