標題: 體積全像光學PMMA系列之高分子感光材料研製及其應用研究(I)
Investigation on Volume Holographic PMMA Series Photopolymer Materials and Their Applications(I)
作者: 林烜輝
SHIUAN-HUEILIN
交通大學電子物理系
關鍵字: 體積全像光學;全像高分子材料;偏振態全像術;光折變非線性光學;光學資訊儲存及處理
公開日期: 2005
摘要: 本計劃的目標在探索『摻雜式PMMA 系列高分子聚合物的體積全像光學特性』,以此開 發新穎的體積全像記錄光學材料,並探索其在光學資訊領域應用的研究。 研究中將以我們實驗室過去研發之PQ/PMMA 高分子體積全像材料的經驗及技術為藍 本,發展三種新穎的記錄材料:1. PQ 摻雜共基底高分子材料、2. 類PQ 分子摻雜PMMA 高 分子材料、3. DR19/PMMA 高分子材料。我們也研究其全像記錄的物理機制,前兩者可以改 進材料的記錄特性,第三種材料則可用於記錄偏極光學全像,可提供新穎的光學資訊應用。 配合整體計劃之進行,第一階段,致力發展三種材料的研製,並以PQ/PMMA 材料的體 積全像記錄機制為模型,探討新穎材料的記錄機制,且同時建立各式量測系統進行相關光學 實驗分析,為建立材料參數提供規範制定與取捨;第二階段,著重於材料體積全像記錄特性 量測,提供材料改進的依據,並配合相關記錄機制,探索及設計其在光學資訊處理的相關應 用;第三階段為整合應用階段,結合全像記錄量測與基礎模型分析結果,致力於光學資訊儲 存及處理研究,初步的構想將進行平面式光學系統積體化、串聯全像超窄頻寬濾波器以及偏 振態全像術等新穎應用之開發。 總之,本計劃將對摻雜式高分子體積全像記錄材料的設計、分析及量測做整體深入的研 究,這是體積全像光學材料一個非常基礎的而且也是創新的研究,藉此探索我們自己的適合 的光學資訊處理的體積全像材料。再者,透過詳細的分析也可進一步探索新的高分子材料之 非線性光學特性。
官方說明文件#: NSC94-2112-M009-023
URI: http://hdl.handle.net/11536/90138
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1091867&docId=205416
顯示於類別:研究計畫