標題: 光學外差表面粗糙度測量術
Optical heterodyne profilometry
作者: 許武憲
Xu, Wu-Xian
蘇德欽
Su, De-Qin
光電工程學系
關鍵字: 光電工程;光學;外差光學共軸;電光晶體;參考信號;測試信號;光學機構;自動化量測;光電系統整合;OPTI-ELECTRONIC-ENGINEERING;OPTICS
公開日期: 1995
摘要: 本論文提出一種外差光學共軸的技術來量測物體表面的粗糙度,運用這技術的光學機 構並與電腦結合,以達成自動化量測的目地並減少龐大資料處理過程中的單調性,且 能及時顯示測量結果也達到光電系統整合目的。首先利用所調制的電光晶體得到差頻 的目的,參考信號與測試信號之間的相位差是粗的函數,籍由分析這函數可計算出表 面粗糙度值。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT844124003
http://hdl.handle.net/11536/61150
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