標題: A SIMPLE-MODEL FOR THE DEPOSITION OF BORON IN SILICON BY USING A BN DIFFUSION SOURCE
作者: GUO, SF
交大名義發表
電控工程研究所
National Chiao Tung University
Institute of Electrical and Control Engineering
公開日期: 1980
URI: http://hdl.handle.net/11536/5061
ISSN: 0013-4651
期刊: JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
Volume: 127
Issue: 11
起始頁: 2506
結束頁: 2509
顯示於類別:期刊論文


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