標題: THE EFFECTS OF THERMAL NITRIDATION CONDITIONS ON THE RELIABILITY OF THIN NITRIDED OXIDE-FILMS
作者: TSAI, HH
WU, LC
WU, CY
HU, CM
工學院
College of Engineering
公開日期: 1-四月-1987
URI: http://hdl.handle.net/11536/4649
ISSN: 0741-3106
期刊: IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS
Volume: 8
Issue: 4
起始頁: 143
結束頁: 145
顯示於類別:期刊論文


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