標題: 反應性模板之製備方法、奈米材料之製備方法及奈米材料
作者: 裘性天
李紫原
王隆昇
盛焙蓀
公開日期: 1-May-2006
摘要: 一種在一不干擾反應的惰性氣體氛圍下,將反應物A均勻塗佈於具特殊形貌的模板T上,以使形成一製備奈米材料用之具有反應物A的模板TA,於反應器中不干擾反應的惰性氣體氛圍下,使模板TA之反應物A與反應物B起反應,以製備一具有生成物C的反應性模板TC;以及於不干擾反應的惰性氣體氛圍下,使用該反應性模板,利用溶劑將具有生成物C的反應性模板TC中之模板T予以移除,使形成奈米材料之製備方法,及所製得的具有與模板T相同之特殊形貌的奈米材料。
官方說明文件#: C01B006/04
B05D003/00
C01B006/04
B05D003/00
URI: http://hdl.handle.net/11536/106337
專利國: TWN
專利號碼: I254030
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