標題: 浸入式傾斜微影機台及其浸入槽
作者: 洪國永
曾繁根
公開日期: 16-四月-2010
摘要: 一種用於浸入式傾斜微影製程的浸入槽。浸入槽的殼體具有底板和數個側壁彼此緊密接合且包圍形成一容置空間。側壁上有貫穿側壁的軸承孔。容置空間中填充液體,液體的折射率介於1.4到1.8之間。載台位於容置空間中且浸埋於液體中。載台的一側具有一軸。軸穿過軸承孔且軸的方向平行於底板。在殼體之外緊鄰軸承孔之處設有旋轉機構。旋轉機構連接穿出軸承孔外的軸。當旋轉機構旋轉軸時,進而帶動載台旋轉,使得載台傾斜。
官方說明文件#: G03F007/20
URI: http://hdl.handle.net/11536/103767
專利國: TWN
專利號碼: 201015230
顯示於類別:專利資料


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