標題: 抗反射層、抗反射表面之製法、及其應用之光電轉換裝置
作者: 張翼
沙湖 卡堤卡 彰德拉
林孟谷
呂貽堯
王聖評
公開日期: 1-七月-2011
摘要: 本發明係有關於一種抗反射表面之製法,其包括:形成金屬膜於鈍化層上;熱處理該金屬膜,俾使金屬膜自組裝成金屬奈米顆粒;利用金屬奈米顆粒作為遮罩,移除鈍化層之部份區域,俾而形成亞波長抗反射結構,其中亞波長抗反射結構之截面積係沿著鈍化層之厚度方向增大;以及移除金屬奈米顆粒。此外,本發明更提供所製得之亞波長抗反射結構及其反射比。由於本發明所提供之亞波長抗反射結構具有較佳之抗反射效果,故可提高光電轉換裝置之光電轉換效率。此外,由於亞波長抗反射結構係製作於鈍化層上,故可降低半導體層因反應性離子蝕刻而受損之可能,進而改善光電轉換裝置之光電轉換效率。
官方說明文件#: H01L031/18
H01L031/0236
H01L031/042
URI: http://hdl.handle.net/11536/103574
專利國: TWN
專利號碼: 201123508
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