標題: 塗佈裝置、塗佈方法以及控制磁性流體之方法
作者: 陳慶耀
巫文良
公開日期: 16-九月-2012
摘要: 本發明提供一種塗佈裝置、塗佈方法以及控制磁性流體之方法,其是利用一徑向磁場施加於一磁性流體,以驅使磁性流體自徑向磁場之中心往外輻射狀延展,藉以避免旋轉塗佈技術所產生的問題。
官方說明文件#: B05C009/08
H01L021/30
URI: http://hdl.handle.net/11536/103389
專利國: TWN
專利號碼: 201236768
顯示於類別:專利資料


文件中的檔案:

  1. 201236768.pdf