標題: 以準分子雷射退火技術製作低溫複(單)晶矽薄膜電晶體元件
Fabrication of Low Temperature Poly(Single)-Crystalline Silicon TFTs by Excimer Laser Annealing Tec
作者: 鄭晃忠
CHENG HUANG-CHUNG
國立交通大學電子工程學系
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2215-E009-108
URI: http://hdl.handle.net/11536/100361
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583906&docId=109711
顯示於類別:研究計畫


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