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2016利用直接模擬蒙地卡羅法模擬直線蒸鍍源有機發光二極體沉積過程之研究薛永立; 吳宗信; Hsueh, Yung-Li; Wu, Jong-Shinn; 機械工程系所
2005改良式鑲崁製程應用於奈米半導體製程及其可靠性改善之研究王廷君; Ting-Chun Wang; 謝宗雍; Tsung-Eong Hsieh; 材料科學與工程學系
2015利用氫化物氣相磊晶法在物理氣相沉積氮化鋁的緩衝層上成長氮化鎵厚膜之研究孫晟淵; Sun, Chen-Yuan; 李威儀; Lee, Wei-I; 電子物理系所
2006利用磁控濺鍍法製作氧化銦鋅薄膜之研究林俊杰; CHUN-CHIEH LIN; 陳家富; CHIA-FU CHEN; 工學院半導體材料與製程設備學程
1998疊層阻障層鈦/氮化鈦及氮化鉭應用於銅金屬化及鋁金屬化之研究蔡國強; Kou-Chiang Tsai; 朝春光; 吳文發; Chuen-Guang Chao; Wen-Fa Wu; 材料科學與工程學系
1-Jan-2017The Study of Steganographic Algorithms Based on Pixel Value DifferenceLee, Chin-Feng; Shen, Jau-Ji; Lin, Kuan-Ting; 資訊管理與財務金融系 註:原資管所+財金所; Department of Information Management and Finance
2010TFT LCD金屬層變更之研究林福祿; Lin, Fu-Lu; 李安謙; Lee, An-Chen; 工學院精密與自動化工程學程
2017應用六標準差法提升TFT-LCD Array良率之研究 -物理氣相沉積法之金屬膜剝落以I公司為例劉晉亨; 姜齊; Liou, Chin-Heng; Chiang, Chi; 管理學院管理科學學程
1996以化學氣相方式與濺鍍方式沉積氮化鉬擴散障礙層在極大型積體電路金屬化應用上之研究劉家宏; Liu, Jiang-Huang; 孫喜眾, 蘇 翔; Shi-Chung Sun, Shyang Su; 電子研究所