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1988以Sio /Si N /SiO 為電介質的雙複晶矽電容的電性研究林志光; Lin, Zhi-Guang; 張俊彥; Zhang, Zun-Yan; 電子研究所
2000超高真空化學氣相沈積低溫新穎複晶矽薄膜電晶體之製作與可靠度分析---子計畫II:退火製程對超高真空化學氣相沈積法成長之複晶矽薄膜結構的影響與退火複晶矽薄膜電晶體的製作 (II)馮明憲; 交通大學電子工程系
2000超高真空化學氣相沈積新穎複晶矽薄膜電晶體之低溫閘極介電層與新結構之研究---子計畫IV:超高真空化學氣相沉積低溫複晶矽薄膜電晶體之鈍化與可靠度之研究詹世雄; 交通大學材料科學與工程研究所
2007飛秒雷射退火: 再結晶、控制佈植活化深度及薄膜電晶體製作的新技術王怡超; Yi-Chao Wang; 潘犀靈; Ci-Ling Pan; 光電工程學系
2007以準分子雷射退火製作控制晶界位置之多閘極複晶矽薄膜電晶體之研究李序恆; Syu-Heng Lee; 鄭晃忠; Huang-Chung Cheng; 電子研究所
1996複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發與研究---總計畫李崇仁; 國立交通大學電子工程學系
1998複晶矽薄膜電晶體相關技術之開發---子計畫二:高品質複晶矽薄膜電晶體介電絕緣層之研究(III)葉清發; 交通大學電子工程系
1991Characteristics of polysilicon contacted P﹢-N shallowjunction formed with stacked amorphous silicon films蔡德安; Cai, De-An; 李崇仁; 雷添福; Li, Chong-Ren; Lei, Tian-Fu; 電子研究所
1982橢圓儀與光譜儀在複晶矽厚度測量上之應用蘇啟孟; Su, Qi-Meng; 李崇仁; 任建葳; Li, Chong-Ren; Ren, Jian-Wei; 電子研究所
1991The study of titanium-polycided shallow junctions formed by outdiffusion of BF□﹢/As﹢ from polycrystalline/amorphous silicon黃正同; Huang, Zheng-Tong; 雷添福; 李崇仁; Lei, Tian-Fu; Li, Chong-Ren; 電子研究所