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2000193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬龍文安; Loong Wen-an; 交通大學應用化學系
2000193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬龍文安; Loong Wen-an; 國立交通大學應用化學系
2000193奈米微影用正規與高透射率嵌附層材料之探討及減光型相移圖罩應用之模擬林政旻; Cheng-ming Lin; 龍文安; Dr. Loong Wen-an; 應用化學系碩博士班
2002193奈米微影用鉬矽氧氮高透射率嵌附式減光型相移圖罩材質之研究張曜宇; Chang Yao-yu; 龍文安; Dr. Loong Wen-an; 應用化學系碩博士班
2002193奈米微影解像度增進技術---高透射率嵌附層之研製、應用探討與模擬龍文安; Loong Wen-an; 交通大學應用化學系
2004193奈米微影高透射率嵌附層應用於透射率控制圖罩之模擬、材料、蝕刻與性質探討龍文安; Loong Wen-an; 交通大學應用化學系
2006193奈米高透射率嵌附層之研製與作為濕浸式微影光學鄰近效應修正用散條之性質探討龍文安; Loong Wen-an; 交通大學應用化學系
2005193奈米高透射率嵌附層之研製與應用於橫電偏振光、偏軸發光、減光型相移圖罩組合之濕浸式微影成像特性模擬探討龍文安; Loong Wen-an; 交通大學應用化學系
1996248奈米深紫外光微影成像製程寬容度最適化陸震偉; Lu,Chen-wei; 莊亨立; 龍文安; Dr. Henry Tan; Dr. Loong Wen-an; 應用化學系碩博士班
1990CCl F 及CHF 氣體在活性離子蝕刻系統中對Si及SiO 表面之蝕刻及成膜行為陳俊麟; CHEN,JUN-LIN; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991Plasma etching of Si and polycrystalline silicon with CCl□ F and its mixture gases王芳崇; Wang, Fang-Chong; 龍文安; Long, Wen-An; 應用化學系碩博士班
1988Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究王清帆; WANG, GING-FAN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988Poly(triallylphenylsilane)+Bisazide與Hexamethoxymethylmelamine+Poly (p-hydroxystyrene) 二種負型阻劑系統性質研究王清帆; Wang, Qing-Fan; 龍文安; Long, Wen-An; 應用化學系碩博士班
1990Poly(tutene-1 sulfone)作為深紫外光正型阻劑及其氮電漿表面改質之研究張憲武; ZHANG,XIAN-WU; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1986Polyformyloxystyrene光阻微影成像性質之研究洪維民; HONG, WEI-MIN; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1992Study on anew type phase shifting mask for 0.35μm pattern transfer周岳霖; Zhou, Yue-Lin; 龍文安; Long, Wen-An; 應用化學系碩博士班
1990交聯反應對乾式顯影表面選擇性強化之影響朱政宇; ZHU,ZHENG-YU; 龍文安; LONG,WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991以CF□/CHF□/O□或CF□/NF□/O□對二氧化矽與經離子佈植的多晶矽之乾式蝕刻劉岳良; LIU, YUE-LIANG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1988以PPIPK 及PMIPK 做為正型、負型阻劑及受離子束撞擊微影成像性質研究彭念祖; PENG, NIAN-ZU; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班
1991以三氯氟甲烷及其混合氣體對矽與多晶矽的電漿蝕刻王芳崇; WANG, FANG-CHONG; 龍文安; LONG, WEN-AN; 應用化學系碩博士班